2025.04.07 19:26 臺北時間

【半導體研發急先鋒1】汎銓為了結構分析蓋新廠 全力進攻半導體埃米世代

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汎銓為了協助客戶埃米技術研發建立新廠,預計於今年8月正式啟動營運;左三為汎銓董事長柳紀綸。
汎銓為了協助客戶埃米技術研發建立新廠,預計於今年8月正式啟動營運;左三為汎銓董事長柳紀綸。
日前汎銓科技舉辦新廠上樑典禮,汎銓董事長柳紀綸在活動致詞上表示,當先進製程到2奈米以下,有一些原子結構分析必須要很好的廠房來予以支撐,而這廠房將會是支持材料分析(MA)的重要基地,幫助客戶全力進攻埃米世代,預計在今年8月正式營運。
「前兩天客戶擴廠典禮,可以清楚知道(客戶)2奈米研發告一段落,而且很順利。」汎銓董事長柳紀綸表示。現在我們就是在忙2奈米以下的東西,有一些東西客戶要求的尺規很細,細到需要拍攝原子級畫面來進行分析,也是因為這樣,汎銓特地蓋新廠,就是為了這單一客戶進入埃米(2奈米以下的製程節點)而建。
雖然汎銓沒直接點名客戶是誰,但就目前市場上可得知,目前2奈米生產進度最快的業者,就屬護國神山台積電。
「為了結構分析蓋廠房,許多人應該沒看過這回事吧!」柳紀綸半開玩笑地說道。他表示,當製程進入到埃米時代,就需要拍攝到非常細的畫面,例如1奈米是頭髮的10萬分之一,需要拍攝到原子結構的邊線,稍微一點抖動都不行,一定要非常清楚,即便是多好的設備,只要旁邊有人走動、咳嗽、踏步,又或者設備本身受到電磁波、接地干擾都不允許。「受到一丁點干擾,影像畫面就會糊糊的,客戶不會接受」柳紀綸拉高語氣。
正是因為如此,柳紀綸進一步指出,新廠場地的防震、環境電磁場抗干擾都要是非常高規格呈現,每一台穿透式電子顯微鏡(TEM)設備都配備高達7至10公尺長的離子接地線,同時更在周圍加裝抗電磁波干擾的設備,大多數的工廠與場地很難有這樣的規格。不僅如此,在地板的處理上,光是地基就灌了2公尺深的地板,並在表層添加特殊材質,用力一壓會有彈性,為的就是要降低噪音、震動等問題。
柳紀綸指出,這個新廠約佔地600坪大,一半則主要用來放置雙束聚焦離子束(Dual Beam FIB)設備,一台要價約170至180美元;一半則用於放置穿透式電子顯微鏡,一台要價約400至500美元。
柳紀綸透露,新廠建置速度非常快,去年11月開工的時候還是一片泥土,現在基本的架構、地板都已經建置差不多,預計今年6月會開始陸續進設備,初期會先有一台穿透式電子顯微鏡、兩台雙束聚焦離子束設備,後續會慢慢增加。
柳紀綸表示,這座新廠為汎銓埃米世代材料分析專區「SAC-TEM Center」,同時汎銓也啟動在美國矽谷設立子公司MSS USA CORP並建立新廠,負責5奈米、2奈米研發,預計於今年5月開幕。除了新廠外,在材料分析本部與竹北二廠,也另設有專門負責埃米世代1.0奈米至1.4奈米製程材料分析相關業務,助力半導體業者加速先進製程研發。
更新時間|2025.04.07 19:26 臺北時間
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