「半導體先進製程產生粉塵越來越多，需要提供除粉塵設備，目前銳澤正在研發中，預計明年上半年可至客戶端進行樣品測試，預計明年下半年能提供新式設備漂亮成績單」，銳澤總經理周谷樺開心說到。
據了解，新型半導體粉塵氣固分離裝置，利用主動式氣旋分離粉塵避免堆積在管壁中，解決半導體產業之粉塵堵塞問題，同時避免Sub-Fab端管道粉塵堵塞造成設備無預警當機，能將PM2.5粉塵的去除率提高至95％以上，平均效率提升58％，有效解決在奈米製程下面臨的尾氣汙染問題。
周谷樺表示，以既有半導體處理的架構，大多是用濕製程的方式，透過液體去溶解，將粉塵帶到水溶的儲存槽進行處理。但因半導體製程越來越先進，粉塵數量越來越多，水洗的粉塵效率就變差，因此產生氣固分離概念，透過乾製程的設計結構，無須用額外的水、電就能將粉塵隔離，透過這種方式，不僅能省水還能省電。
這個半導體粉塵氣固分離裝置算是Local Scrubber（尾氣處理設備）的一環，一般的Local Scrubber會同時具備除粉塵、除毒氣的功能。而銳澤推出的這款氣固分離裝置，比較是Local Scrubber前的一道製程，只專精於除粉塵用途。
周谷樺透露，一個12吋晶圓廠通常會需要300～400台的Local Scrubber，只要是Local Scrubber需要的數量，氣固分離裝置就需要多少數量，這也是銳澤看中的商機。
除粉塵與除毒害是兩件事，如何透過不同組合將有毒物和粉塵全部除去，對排放標準來說才是全部合格。目前在半導體生產過程去除毒害的達到效果，各界較無疑慮，可以透過燃燒、電熱水洗、觸媒等方式實現。周谷樺透露，未來銳澤不排除研發除毒害的技術，但因為市場已有多家業者生產製造，未來可能採合作方式，將其氣體分離器整合到合作夥伴的Local Scrubber設備當中。
