回溯這起官司，2010年先進光副總羅章浚，透過下屬得知大立光鄒姓、謝姓、翁姓3名工程師想離職，由於3人皆具有先進光急需的自動化設備開發經驗，其中一人又是日本早稻田大學機械碩士，羅章浚因此將3人挖角過來；3人到職後因另需機台研發人員，又找了朱姓前同事跳槽支援。
這4名大立光的前工程師在2011年間聚在一起，準備攜手打拚新戰場，卻無視與大立光簽訂的保密條款，將在大立光任職時取得並擅自存取的3D圖檔電磁紀錄，帶到先進光作為研發時參考、抄襲的範本，並在短期間內協助先進光申請二大鏡頭專利。
民事官司審理時，先進光抗辯說，有爭議的著作是遵循CNS標準的製圖規則繪製，與坊間的工程圖面並無不同，不具創作性。且4名工程師任職大立光期間均未從事機台結構設計，也未接觸工程圖，亦非從事機台硬體結構的設計人員及管理密碼的資管人員，自無從認定4名工程師有接觸大立光圖面的機會，而羅章浚也無侵權的主觀故意。
先進光還說，大立光宣稱的營業祕密，乃任何光學產品組裝製程中作為供料之用，或屬於自動化領域的通常知識，或經諸多先前技術所揭示，凡具有一般力學知識的人均可輕易推知，常見於各式自動化製程中作為產品封裝、黏合之用，無從認為是大立光公司所創作，因此都不構成營業祕密。
先進光並表示，他們早就進行自動化自主研發，並未使用大立光的技術，大立光無法證明這些員工有接觸、取得相關著作及營業祕密之事由，且這些員工也沒有侵害營業祕密的故意，自然不用負損害賠償責任。
不過，智財法院認為，4名工程師自承「撰寫或維護程式至產線試機，皆會看到或更換過專利機器」、「在職期間會接觸到專利」，因此認定4名工程師在大立光任職時確有接觸相關技術的機會，先進光申請專利所附圖式與大立光內部工程圖實質近似，認定大立光著作權已受侵害。
智財法院並指出，4名工程師利用大立光的營業祕密，在極短時間內協助先進光設立自動化製程，並以先進光名義申請專利，其中4名工程師及羅章浚於專利「申請權證明書」列名為發明人並簽章，先進光時任負責人林忠和也在專利申請案的委任書簽章，顯示6人之間有共同不法犯意聯絡，因此於2021年判先進光與這6人必須連帶賠償大立光15億餘元，創下智財法院判賠金額的最高紀錄。
