2024.09.09 21:14 臺北時間

埃米世代抓漏專家汎銓 具AI晶片矽光子分析專利技術

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財經理財
汎銓早就參與9月台積電引進首台、下一世代High NA EUV曝光機使用金屬層氧化物EUV光阻的研發。隨著今年啟用竹北營運二廠,也已完成最新檢測分析設備進駐並投入營運。
汎銓早就參與9月台積電引進首台、下一世代High NA EUV曝光機使用金屬層氧化物EUV光阻的研發。隨著今年啟用竹北營運二廠,也已完成最新檢測分析設備進駐並投入營運。
半導體先進製程開始進入埃米世代,進入埃米世代,AI人工智慧浪潮掀起的海量資料高運算能力需求只會越來越高,伴隨而來的便是高耗能、高熱能,目前看來得好解方就是最近很紅的矽光子及共同封裝光學元件(CPO)。而半導體龍頭台積電,想突破摩爾定律瓶頸,也必須從積體電路轉變成積體「光」路。當中這一切的發展過程,少不了汎銓科技(6830)所扮演的分析檢測角色。
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中美貿易科技戰關係,擁有先進製程材料、光、電驗證檢測分析能力的汎銓,已停滯中國的發展進度。
它是矽光子產業聯盟成員裡唯一擁有矽光偵測定位、漏光點矽光衰減量測、矽光斷路偵測等矽光量測方案及失效分析技術者。但從營業績效來看,汎銓今年不會好,儘管有10%左右的成長,不過由於提前對先進製程、AI晶片、矽光子投入15億元、近30台對應設備的成本,成長被吃掉下,每股盈餘EPS預計會倒退回到2塊多,董事長柳紀綸表示,「2奈米製程檢測人才學習曲線長,儘管訂單滿手,但營運業績好不了,優化學習曲線後,加上矽光子趨勢,2025年EPS會恢復到2023年(5.59元)水準,後年則會更漂亮。」
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董事長柳紀綸(左2)說,汎銓除持續擴增、優化專業檢測人力外,日本、美國營運據點預期於2025上半年啟用並投入營運。
其底氣來源在於今年業績占比65%的先進製程,汎銓在材料分析(MA)技術與精密工法仍穩居領航者地位,隨著時間打磨學習曲線進一步優化,擴充的技術人員將可大幅消化進案量,逐步抵銷、攤提設備成本。而在半導體龍頭的授意下,汎銓也是美系AI晶片大廠在台唯一的檢測分析夥伴,由於AI晶片、矽光子趨勢大步邁前,量能被開發出來後,汎銓的營運動能將逐年擴大,以其獨領風騷的矽光子檢測為例,它現在只占汎銓3%的業績,但董事長柳紀綸預估多項關鍵檢測分析技術申請全球專利後,明年將可達到15%。
更新時間|2024.09.09 21:41 臺北時間
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